[文/观察者网吕东]
12月5日，台湾省《经济日报》和联合新闻网同时报道了11月26日在青岛正式投产的富士康集团第一家晶圆级封装测试工厂，引进了多达46台上海微电子制造的光刻机，同时表示这意味着mainland China制造的光刻机实现了从90nm到28nm的跨越。
经观察者网核实，发现富士康与青岛国资合作的半导体封装测试项目于今年7月开始引进上海微电子的光刻机。但台媒混淆了前者制造光刻机和后者封装光刻机，青岛封测项目使用的光刻机属于封装光刻机，不用于芯片制造。
一位资深半导体行业人士告诉观察者网，传统封装工艺不需要光刻机，只有晶圆级的高级封装才会使用光刻机。相对于用于IC制造的光刻机，用于封装的光刻机研发难度要小很多，市场空缺口更小，但后发的光刻机厂商可以先在封装领域积累。
来源:青岛新芯科技有限公司。
据富士康官方微信消息，11月26日上午，富士康半导体高端封测项目启动仪式在青岛西海岸新区举行。随着首条晶圆级封装测试生产线的开工，项目已进入生产运营阶段，预计投产后每月将完成约3万片晶圆芯片的封装测试。
2020年4月，青岛西海岸新区与富士康签约，设立高端半导体封装测试项目。项目主体为青岛新芯科技有限公司(以下简称新芯科技)，注册资本5.08亿元。
启信宝信息显示，新新科技目前持有青岛国资间接控制的青岛孔融技术服务公司约46.85%的股权。富士康关联公司鸿景科技持股约15.75%，子公司深圳富泰华实业持股约11.81%。富士康集团总经理陈微明担任董事长。
开心宝截图
2020年7月，新核心技术封测工程开工建设，12月工程主体封顶，开始内部装修。2021年7月举行安装仪式，设备按安装调试，12月实现量产。从开工到量产只用了17个月，创造了同行业建厂奇迹。这不禁让人想起，郭台铭在美国三年多的时间里，为特朗普画了一个蛋糕，特朗普下台时他也没有兑现。
今年12月3日，SMIC在官网发帖称，公司于今年7月举行了首届光刻机入职仪式。文章指出光刻机是半导体工业封装厂和晶圆厂的关键设备。在瞬息万变的世界形势下，新芯采用国产光刻机，保证了生产的稳定和产能的提高。
现场图片显示，新核心技术首台封装的光刻机确实由上海微电子生产，但设备总数和具体技术细节尚未透露。
图片:青岛西海岸新区国际招商
随后，12月5日，联合新闻网等台湾媒体报道，在青岛正式投产的富士康集团首个晶圆级封装测试工厂，引进了多达46台上海微电子的28nm光刻机。报道称，该光刻机已于8月完成技术检测认证，这意味着上海微电子的光刻机实现了从90nm到28nm的跨越。
观察者查询上海微电子官网发现，该公司的光刻机产品分为用于IC前端制造的600系列光刻机和用于IC后端高级封装的500系列光刻机。其中，600系列光刻机最新型号SSA600/20的分辨率为90nm，而500系列光刻机的最小分辨率为1 μm。
显然，台湾媒体混淆了用于制造的掩模对准器和用于高级封装的掩模对准器。
台湾媒体报道截图
在封装光刻机领域，上海微电子已经有所突破。
2020年6月，方正证券的一份研报显示，上海微电子在封装光刻机领域已实现批量供货，是多家领先封装测试企业(日月光、通富微电子、长电科技等)的主要供应商。)，而国内封装光刻机的市场份额高达80%。不仅在国内市场有所建树，上海微电子的封装光刻机还远销海外市场，占据全球40%的市场份额。
今年9月，上海微电子宣布推出新一代先进的大视场、高分辨率封装光刻机。公司表示，此次推出的新产品光刻机主要应用于高密度异质集成领域，具有高分辨率、高套刻精度、大曝光视场等特点，可帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用。
掩模对准器封装市场份额方正证券2020年6月研究报告截图
然而，在制造领域，上海微电子与ASML等国外光刻机巨头的差距非常明显。
方正证券指出，由于光刻机中技术最复杂、难度最大，需求和价值是所有光刻机中最高的，中国企业目前的技术水平与荷兰、ASML等国外龙头企业还有较大差距。
从市场规模来看，封装用光刻机和制造用光刻机差距很大。据市场分析机构Yole统计，2020年先进封装光刻设备市场规模将达到10亿美元，2020-2026年封装光刻设备市场年均增长9%至17亿美元。2020年，光刻机IC渠道市场规模约为135亿美元。
从全球范围来看，半导体网关光刻机长期由ASML、尼康和佳能主导。从2012-2019年全球半导体网关光刻机出货量占比可以看出，ASML、尼康、佳能几乎占据了99%的市场份额，其中ASML光刻机的市场份额常年在60%以上，市场地位非常稳固。
光刻机行业发展趋势方正证券2020年6月研究报告截图
方正证券提到，光刻机中的进口替代不是某一家企业可以单独完成的，而是需要光刻产业链上顶尖企业的配合。光刻产业链可以分为两部分。一个是光刻机的核心部件，包括光源、物镜、双工作台、浸没系统等关键子系统，另一个是光刻的配套设施，包括光刻胶、光掩模、涂胶和显影设备等。
市场研究机构CINNO Research的分析师向观察者网指出，目前我们了解到的信息是，国产光刻机R&D难点影响最大的部分是光源和物镜，分别来自北京易科宏远和郭旺光学。其中物镜是最难的，与德国、日本多年积累的技术经验还有差距，短时间内不容易赶上。另外，为了提高子系统和组件的自主化程度，反制美国的“瓶颈”，整个系统需要更多的时间来完善。
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