日报记者高博
11月29日，由中科院光电技术研究所承担的国家重大研究装备研制项目“超分辨率光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台采用紫外光源实现22nm分辨率的光刻机。
中科院光电所研究人员操作超分辨率光刻设备(供图:中科院科技摄影联盟)
光刻机相当于一台投影仪，在感光板上投射出精细的线条图案，光就是一把切肉刀。但线条的精细程度是有限度的——不能小于光波长的一半。“光线太胖，门太窄，光线过不去。”参与研究的科学家杨勇告诉科技日报记者。
使用深紫外光源的光刻机是主流，成像分辨率限制在34 nm。要进一步提高分辨率，还需要多次曝光等技术，非常昂贵。
2003年，光电所开始研究一种新方法:金属和非金属薄膜粘合，界面会出现无序电子；用光照射金属膜，可以使这些电子有序振动，产生波长短得多的电磁波，可用于光刻。
这样，“宽刀”就变成了“窄刀”。光电研发的掩膜版光刻机，在365 nm波长的光源下，单次曝光最高线宽分辨率为22 nm，相当于1/17波长。
光刻机很熟悉，因为它是IC制造业的核心角色。目前由荷兰ASML公司垄断的尖端集成电路光刻机，加工极限为7纳米。光电子所的光刻机分辨率是22 nm，但是定位不一样。
光电所掩模光刻机擅长加工一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感器芯片、超表面成像器件等，对我国遥感成像、生化痕量测量、特殊表面材料等领域具有重要意义。
项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨率光刻设备的研发情况(供图:中科院科技摄影联盟)
“ASML EUV光刻机使用的13.5nm极紫外光源，成本高达3000万元，而且还得在true 空下使用。”该项目副总工程师胡松说:“我们使用的365纳米紫外线汞灯只需几万元。我们的整机价格从百万元到千万元不等，处理能力介于深紫外和极紫外之间，让很多用户喜出望外。”
高分辨率大面积光电技术路线，掌握了超分辨率光刻透镜、精密间隙检测、纳米级定位精密工件台、高纵横比刻蚀、多图形匹配光刻工艺等核心专利，技术完全自主可控，在超分辨率成像光刻领域处于世界领先水平。
