台积电表示，DUV光刻机也能生产5nm芯片，但是成本会较高，所以台积电没采用
铠侠和佳能也说，用NIL工艺，可以用DUV生产5nm芯片，不依赖EUV。
下图是DUV光刻机图片，物镜都是透镜，形成透射组，将光汇集和光刻。
下图是EUV光刻机，用的是反射镜，因为EUV光波长太短，透镜损耗太大
中国光刻机进展！EUV的技术也在积累中
还记得央视报道，将光存储在容器中的新闻吗？那里面的容器壁就可以用作EUV的物镜反射涂层
光刻机三大件，我们都已经解决
双工台
物镜
传送臂
1. 上海微电子是唯一选择吗？
2. 离开上海微电子，我们真就做不出来吗？
3. 中国会将自身命运，挂在一个企业身上?
4. 中国真被孤立到自己造所有零部件?
世界的变化在于，顺势而为，美国逆势而为，会让美国半导体走向衰落
