光刻机，这个芯片制造过程中最重要的设备，在现在全球缺芯的大环境下，显得更加重要。也就是说，谁能够拿到更多的光刻机，自然就能够提升更多的产能。

可光刻机对于我们来说，却一直不能自由出货。然而，最近ASML态度突然改变。

近日，ASML全球副总裁、中国区总裁沈波在上海世博会上，对光刻机再次表态。他的意思就是，EUV光刻机依然受限制，但DUV光刻机不受限制，可以自由出货。

EUV光刻机是生产7nm以下制程芯片必备的，不能出货对我们来说，还不影响大局。

而DUV光刻机却是生产14nm和28nm等成熟制程芯片的必不可少的设备。要知道在之前并不能自由出货，也有很多限制，比如需要许可，程序也相当繁琐。

现在，从ASML的最新表态看，DUV光刻机已经不受限制。那么， ASML 的态度为什么会突然改变呢？仔细分析，应该是以下三个原因决定的。

第一，再次认识到我国市场潜力巨大。要知道，我国是全球最大的芯片消费市场。虽然现在主要依赖进口，但已经制定了2025年实现芯片自给率达到70%的目标。

要实现这个目标，必然要扩大建厂提高产能，这自然就要用到更多的光刻机。相关统计数据也显示，我国大陆已经成为全球最大的半导体设备市场。

面对我国这个还在日益增长的市场，ASML仅从营收上考虑，也绝对不想错过。

第二，来自竞争对手的威胁越来越大。ASML现在是光刻机领域的霸主，但被它超过的日本尼康、佳能虽然落后了，但也并没有放弃对光刻机技术的研发。

前段时间，尼康正式宣布，新一代ArF 浸入式光刻机正在开发，可用于生产5nm芯片，将于2023年开始销售。这个也不简单，将直接挑战ASML的EUV光刻机。

日本铠侠也在另一赛道研发，将绕开EUV光刻机。对此，ASML更不会忽视，因此才会趁机开始自由出货，抢先占领市场，不然到时再抢，估计就没它的份了。

第三，国产光刻机自主研发进展很快。这点才是最重要的原因。现在光刻机占优势的ASML不能自由出货，主要是因为有相关限制。西方对光刻机这类高科技产品的态度，一直是把控很严，要求必须领先我们两代以上，才可以卖给我们。

然而，近两年芯片规则的变化让我们彻底明白，必须掌握核心技术，必须发展我们自己的芯片产业链。为此，在光刻机、光刻胶等设备和材料各个细分领域开始攻关。

尤其是光刻机，更是提上重要日程，不断有新突破。像清华突破了EUV光源技术，长春光机所突破了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造的关键技术，等等。

另外，最重要的是上海微电子的新一代国产光刻机即将下线，可用于28nm芯片制造。这个上市后，必然受到国内厂商的欢迎，肯定能够占领更大的市场。

ASML态度突然改变，肯定是了解到了这一重要情况。同意自由出货DUV光刻机，一方面可以提前占领市场，另一方面就是能打压我国即将下线的国产光刻机。

西方的科技巨头向来如此，只要我们实现突破了，他们就会放开相关限制。

他们不仅放开限制，还会低价倾销，目的就是打压我们的技术突破，让我们的产品没有市场，然后就失去了继续下一步研发的资本，结果他们就再次垄断市场。

像之前的盾构机、刻蚀机等，都是如此。盾构机我们没有突破之前，价格昂贵的不得了。刻蚀机没有突破之前，也像现在的光刻机一样限制出口，后来就放开了。

还有个最明显的事例，最近的双十一有网友买内存，突然发现内存变得便宜了，像三星、海力士、西部数据等外企的，之前都很贵，还不断涨价。最后发现，因为我们的长江存储和长鑫存储都实现了突破。就是说，国产突破帮了大忙。

这就是为什么我们一定要支持国产，只有国产实现技术突破，我们才有最起码的议价权，才能用上物美价廉的产品，这是最简单的道理。

因此，我们才说ASML态度突然转变，DUV光刻机不受限制，得感谢国产光刻机。为此，我们打造芯片自主产业链不容再置疑，也不能迟疑，必须全力以赴！