不积跬步，无以至千里。不积小流，无以成江海；骐骥一跃，不能十步。驽马十驾，功在不舍。在高端科技方面，不得不承认，我国确实仍有大片空白需要弥补，在全球缺芯的当下，光刻机无疑是非常重要的。
在这样重要的领域，我国也再次迎来了突破，此前美国修改规则，限制阿斯麦尔对我国光刻机的出货自由，如今这样看来，阿斯麦尔应该是被坑了。那么，阿斯麦尔究竟被坑得有多惨呢？
在我国国产光刻机再次取得突破，这样辉煌的成绩之下，我国光刻机国产化的发展真就可以高枕无忧么？
2022年3月2日，国望光学光刻机曝光系统生产基地项目获得了新进展，北京市公共资源交易服务平台在当天发布了《投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地项目清洁工程中标候选人公示》。
其中，四联智能技术；世源希达工程技术；冠华机电工程这三家企业共同获得了这一清洁工程的中标书。这三家企业如今中标，主要的应该就是研发设计生产光刻机曝光光学系统，无疑也证明了国产光刻机曝光光学系统即将到了要正式落地的阶段。
据说，目前的这个清洁工程，这项建设发展光刻机曝光光学系统，其实发展的着眼点在于28纳米以下，也就是DUV光刻机的水平。
如今，我国在光刻机曝光光学系统上面再发力，再突破，无不证明了我国在光刻机国产化进程方面又更进了一步。犹记得，上次我国国产光刻机取得巨大突破还是在二月底，我国高校北大成功掌握扫描透射电子显微镜这样重要而又关键的光刻机核心技术。
如今不过十几天，又传来了这样的突破，传来了光刻机曝光光学系统建设即将落地的好消息，很多外媒纷纷表示，阿斯麦尔这次是被美国狠狠坑了一把。
首先，国产光刻机迅速发展，影响阿斯麦尔的经济收益
诚如外媒所言，阿斯麦尔这次确实被美国坑得不轻，如今，我国在光刻机核心技术方面再次取得了这样的成绩，随着一个个核心技术的突破，随着国产光刻机被推动着迅速发展，未来，为我国国产光刻机的落地也同样提供了不小的可能。
而一旦未来国产光刻机落地，还是很有可能会获得不少消费市场的认可和接纳的，毕竟国产光刻机本身实力就不弱。在去年11月26日，富士康在我国青岛建厂的时候就一口气买下46台用于芯片封测的国产光刻机。
从中我们可以看出，国产光刻机其实实力也是不弱的，要不然也不会受到富士康这样的大力欢迎。因此，如今我国国产光刻机如此迅猛发展，如此再迎突破，在未来的日子里。未必没有落地的可能，未必就没有影响阿斯麦尔消费市场，阿斯麦尔经济收益的可能。
其次，国产光刻机迅速发展，冲击阿斯麦尔的市场地位
如今，国产光刻机迅速发展，等于向外界证明了一件事，那就是光刻机，光刻机核心技术并非是无法突破的，并非只有阿斯麦尔才能掌握这样的核心技术。未来，如果国产光刻机进入市场，无疑会大大减弱阿斯麦尔的市场影响力和市场地位。
国产光刻机方面，我国会有这样辉煌的成就和突破，其实归根结底都是因为美国修改规则，限制阿斯麦尔对我国的出货自由，让我国得以在忧患中不断谋求自身在这一高端领域的发展和进步。就这样发展下去，对于阿斯麦尔的影响确实不小，这次，阿斯麦尔结结实实 被美国坑了一把。
那么，如今我国国产光刻机这样迅速发展，在这样一片光明的发展前景下，光刻机国产化真能就此高枕无忧吗？
首先，最重要的EUV光刻机还没有实现国产化
当然不行，目前，我国在光刻机国产化进程上，虽然当下突破了这项DUV核心技术，虽然在去年，我国还突破了有关EUV光刻机研发生产的三大核心技术，这三大核心技术分别是清华大学和北京华卓精科合作的国产双工作台系统。
去年6月28日，我国在北京怀柔科学城成功完成了首台高能同步辐射光源的安装，以及在同一天正式落地使用的，中科科美研制的国产透镜镀膜装置以及纳米聚焦镜镀膜装置。
我国在光刻机国产化道路上突破的成绩确实可以说很耀眼。但是，总的来说依旧还没有完全实现国产化，依旧还无法成功研发生产出货国产的EUV光刻机。这样一来，就算我国在光刻机领域取得再多的成就，又如何能够高枕无忧呢？
其次，阿斯麦尔正在生产新一代更先进的EUV光刻机
去年9月2日，阿斯麦尔就在生产新一代EUV光刻机，与目前主流的EUV光刻机相比，Na值从0.33上升到0.55，性能提升了20%，能够满足3纳米芯片的生产需求。从中我们可以看出，阿斯麦尔的光刻机实力正在不断进步，我国国产光刻机同阿斯麦尔之间的差距正在一步步拉大，如今，国产光刻机面临的竞争形势依然严峻，又如何能够就此高枕无忧呢？
如今，有关光刻机曝光光学系统的一则中标书，证明了我国国产光刻机曝光光学系统建设有了更进一步的进展。希望未来我国重任在肩的这三家中标企业能不负期望，尽早实现光刻机这一关键核心技术设备的成功落地。
当然，别看我国光刻机国产化取得这样巨大的进步，也并不意味着就此高枕无忧，国产光刻机的发展威胁依然存在，在未来的日子里，希望我国能够在光刻机领域继续加大人力、财力、科技的科研投入，争取早日在光刻机领域绽放出耀眼的国产之光。
