国产DUV光刻机(芯片业新消息,国产DUV光刻机即将落地,7nm芯片或实现量产)

随着5G、AI、云计算等“新基建”的快速发展,芯片所扮演的“数字时代石油”的角色日益凸显。而我国既通讯技术最发达的国家,又是全球最大的消费市场,美国通过芯片限制我国科技巨头的发展,也让我国迎来了一股“造芯潮”,然而,芯片所用到的光刻机,则是我国长期被“卡脖子”的典型!


在光刻机市场,荷兰的ASML是光刻机领域这一“金字塔”最顶尖的企业,不仅在高端EUV光刻机市场占据了绝对垄断地位,在DUV光刻机市场也占据了绝对优势。众所周知,EUV光刻机可以生产7nm、5nm和更先进的3nm等制程芯片,正是因为“禁令”的缘故,我国无法进口EUV光刻机,这也增加了国内芯片制造企业对7nm或更先进制程技术的突破。


不过,DUV光刻机,也就是深紫外光刻机,不仅可以生产28nm、14nm工艺的芯片,同时也可以生产7nm工艺的芯片,而在DUV光刻机领域,生产厂家有ASML、日本的佳能、尼康,还有一家中国企业上海微电子。


国产光刻机迎新突破

在国内中、低端光刻机领域,上海微电子占据着很大一部分市场,其中600系列是上海微电子目前能实现量产的最先进的股将科技,用于90nm工艺芯片的生产。不过,通过了这几年的卧薪尝胆,持续攻关,上海微电子已经掌握了高端光刻机的集成技术,并整合了核心零部件的制造技术,光刻机技术直接从90nm突破到了28nm。


根据国内媒体传来消息,上海微电子精度为28nm的DUV光刻机即将落地实现量产,可以说,这是国产光刻机的新突破,而上海微电子28nm精度的光刻机,不仅可以实现28nm、14nm工艺芯片的量产,还可以实现10nm、7nm工艺芯片的量产,值得注意的是,没有受到美国技术的限制。


中国院士罕见发声

众所周知,制造光刻机的难度非常之大,即便ASML也曾公开表示,即便给你完整图纸,你也造不出来光刻机。针对国产光刻机,我国工程院院士吴汉明罕见发声,他表示,一台高端EUV光刻机的零部件就需要10万多个,供应链企业多达5000家,比如光源选择美国的,光学系统由德国提供,材料由日本来提供,一个国家、一家企业想要独自实现,非常不现实!同时,吴院士强调,必须将光刻机产业链建起来,需要用产业来推动发展。


duv光刻机

ASML就是如此,荷兰人口仅有1700万左右,却能在成为光刻机领域这一金字塔的塔尖,其核心就是通过供应链整合的模式,而吴院士的意思,也是希望国产光刻机企业能通过多方协作、广泛吸纳人才的方式将产业链建立起来,避免单打独斗,闭门造车,最后陷入“恶性循环”。


即便是芯片制造领域也是如此,比如三星、台积电,通过整合技术、供应链的方式,集中全力发展芯片制造技术,如果面临着卡脖子,就要全球广纳人才、从底层培养芯片人才,狠抓学术、教育,同时与国内科研、学术机构展开合作,共同研发。


相信,在中科院等科研机构、企业的带领之下,高端光刻机、芯片必然会解决被卡脖子的问题。而针对于科研人员、科研机构等,袁隆平院士也给我们留下了一句珍贵的话“要为理想而奋斗,而不是为了钱!”不要为了钱而偏离初衷!

关于此事,大家怎么看?

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